AI 비전검사 소프트웨어 기업 뉴로클(Neurocle)이 세계 최대 머신비전 전문 매체 Vision Systems Design이 주관하는 ‘Innovators Awards’에서 5년 연속 수상이라는 성과를 거뒀다. 올해 수상은 뉴로클이 고해상도 이미지 검사 공정을 위해 개발한 딥러닝 모델 및 알고리즘의 혁신성과 산업 현장 적용성을 동시에 인정받은 결과다.

최근 반도체, 정밀 전자 부품, 배터리 등 제조 산업에서는 제품 고도화와 미세 결함 탐지 수요 증가에 따라, 4K 이상의 고해상도 이미지를 활용한 검사 공정이 일반화되고 있다. 그러나 고해상도 이미지는 데이터 크기가 수백 MB에 달하고 연산량도 방대해, 기존 AI 비전 시스템으로는 실시간 처리와 정밀 검출을 동시에 구현하기 어려운 한계가 있었다.

뉴로클은 이러한 산업 현장의 과제를 해결하기 위해, 고해상도 이미지 처리에 특화된 Patch 기반 알고리즘 기술을 다각도로 발전시켰다. 대표적으로, 패치 단위의 분류(Patch Classification) 모델은 리사이징 없이 원본 이미지 전체를 패치 단위로 나누어 처리함으로써, 기존 분류(Classification) 모델에서 자주 발생하던 미세 결함의 누락 문제를 효과적으로 보완했다.

또한, 세그멘테이션(Segmentation) 모델의 패치 모드(Patch Mode)는 고해상도 이미지 내 특정 영역에서 수십 μm 단위의 미세 결함까지 정확히 검출할 수 있도록 해준다. 이를 통해 전극 코팅 불량, 필름 표면의 스크래치 및 미세 크랙 등 극소 결함까지 정밀하게 식별할 수 있다.
가상 결함 생성(Synthetic Defect Generator) 모델에 적용된 패치 모드는 실제 미세 결함의 크기, 형상, 위치를 그대로 반영한 고품질 학습 데이터를 생성하는 기술로, AI 모델이 초미세 결함의 특성을 보다 정밀하게 학습하고 인식할 수 있도록 한다. 이를 통해 고해상도 환경에서도 재현성 높은 딥러닝 학습 품질을 확보할 수 있으며, 초기 학습 데이터가 제한된 신규 공정에서도 빠르고 안정적인 모델 구축이 가능하다.

뉴로클의 패치(Patch) 기반 기술은 기존 AI 시스템으로는 처리하기 어려웠던 고해상도 이미지 검사 공정을 현실화시켰다. 수백 MB에 달하는 4k 이상의 큰 이미지에서도 미세 결함을 높은 정확도로 검출할 수 있어, 극소 결함의 누락 없이 안정적인 품질 관리를 가능하게 한다. 이처럼 산업 현장의 실질적 요구를 반영한 기술 혁신이 주목받으며, 뉴로클은 올해도 ‘Innovators Awards’ 수상 기업으로 선정되어 5년 연속 수상이라는 기록을 달성했다.

뉴로클 이홍석 대표이사는 “이번 수상은 산업 공정에서 실제 필요한 AI 검사 기술을 끊임없이 고도화해 온 결과”라며, “앞으로도 제조 현장의 과제를 선제적으로 해결할 수 있는 산업 특화 AI 기술 개발에 집중하겠다”고 밝혔다.